分析室极限真空：5×10-10mbar;
单色X-射线源：Al kα 150 W，束斑500 μm;
能量分辨率和灵敏度：Aɡ3d5/2峰半高宽为0.6 eV时强度大于1,600,000 cps;
UPS：灵敏度1,000,000 cps，能量分辨率100 meV@ Aɡ费米边。
XPS在超高真空条件下通过用单色X射线照射样品材料并测量从材料表面（0-10 nm）经光电效应出射的光电子的能量和空间分布进而获取和分析材料中存在的元素构成、经验式、以及元素的化学态和电子态。
XPS是定量表面分析谱学技术，可检测除氢和氦以外的所有元素，检测限1-0.1 at%。适用于分析无机化合物、金属合金、半导体、聚合物、陶瓷、催化剂、玻璃、纸张、纺织品、等固体材料。样品形态包括块状、薄膜、粉末、纤维等，具有广泛的样品适用性。
