X射线光源:Cu靶;
电压电流:电压≤45 kV,电流≤200 mA;
最大功率:9 kW;
最小步长: 1/10000º;
微区光斑尺寸:400 um;
温度范围:室温-1100 °C。
该仪器采用高功率转靶光源,高分辨率θ/θ立式测角仪。主要用于各类薄膜材料的晶体结构、结晶品质、应变状态等的高精度表征分析,特别适用于单晶外延薄膜、单晶片、多晶薄膜等样品的测试。可以测量薄膜的厚度、组分、晶格常数、织构、物相、宏观和微观应力、择优取向等结构参数。
具体可测试的内容如下(不限于):
1. 摇摆曲线分析(omega-2theta, rocking curve)
2. 倒易空间图(Reciprocal Space Mapping)
3. 外延关系判定(Phi-scan)
4. 反射率(XRR)
5. 掠入射表面深度分析(GIXRD以及In-plane GIXRD)
6. 残余应力(Residual stress)
8. 织构分析(texture)
9. 粉末多晶物相鉴定(Phase analysis)
10. 二维X射线衍射(2D XRD)
11. 高温薄膜X射线衍射
涉及样品种类包括(不限于)半导体晶圆、单晶、薄膜、药品、金属、纳米材料、有机材料、矿石等。另外,我们也可根据用户需求提供适合客户的定制化服务。